グローバルナビゲーションへスキップする メインコンテンツへスキップする

洗浄用途

水切り・乾燥

優れた浸透性により水切り効果が高く、低温蒸気により素早く乾燥します。 半導体製造においては微細構造物のスティクションを防止します。

特長

open/close
  • 素早く乾燥し、しみ(ウォーターマーク)の発生を抑えることが出来る。
  • 優れた浸透性(低表面張力・低粘度)により、微細構造間隙の水きりも可能。
  • 低温蒸気乾燥により、被洗浄物への熱的ダメージが少ない。(Novec™ 7100 沸点61℃)

用途例

open/close
写真:用途例図:Novec™ 高機能性液体によるスティッキング防止
  • CCD・CMOSセンサーパッケージ
  • カメラ等のレンズ部品
  • 精密部品の水切り、乾燥
  • MEMSなどの微細構造物

製品情報

open/close

洗浄方法

図:洗浄概念

蒸気発生のための省エネルギー化が可能でCO2の発生を抑えることができます。
イソプロピルアルコール(IPA)に換えて、Novec™ 7100に5%のIPAを混合し不燃化したNovec™ 71IPAによる水切りも可能です。

洗浄性能データ

図:MEMS乾燥

MEMSデバイスのスティクションフリー 乾燥事例
Novec™ 71IPAと超音波の組み合わせにより高い水分除去率を確保できます。

蒸気洗浄の原理

除塵洗浄

写真:除塵洗浄

優れた浸透性によりパーティクル(塵埃)除去効果が高く、低温蒸気により素早く乾燥します。

優れた浸透性によりパーティクル(塵埃)除去効果が高く、低温蒸気により素早く乾燥します。

特長

open/close
  • パーティクルの除去性能に優れる。
  • 優れた浸透性(低表面張力・低粘度)により、微細な間隙の洗浄も可能
  • 優れた乾燥性により、シミを残すことがほとんど無い。
  • 一液で浸漬洗浄から蒸気洗浄まで対応可能。
  • 低温蒸気乾燥により、被洗浄物への熱的ダメージが少ない(Novec™ 7100 沸点61℃)。
  • 洗浄装置をコンパクトにでき、省設置スペースが可能

用途例

open/close

電子デバイスの除塵(パーティクル除去)

写真:用途例
  • CCD、CMOSセンサー
  • 水晶部品
  • MEMS
  • 半導体ウェーハ
  • センサー部品 など

その他精密部品の除塵(パーティクル除去)

  • 光学部品
  • 半導体ウェーハ用ケース など

洗浄方法

図:洗浄方法写真;洗浄イメージ

製品情報

open/close

競合製品との物性比較

蒸発潜熱

低温蒸気乾燥により、熱に弱い洗浄部品に適します。
また、蒸気発生のためのエネルギーセービングが可能です。

表面張力

表面張力が小さいため、浸透力が増し、複雑な部品の狭少部の洗浄を可能にします。

フッ素系堆積物の除去

フッ素系汚れの除去性、浸透性に優れています。半導体製造工程においてフッ素系堆積物(デポジット)の除去に広く利用されています。

特長

open/close
  • フッ素化合物の溶解性、膨潤性が高く、短時間でフッ素系堆積物の除去が可能。
  • 低表面張力。
  • 塵やホコリの除去性能に優れる。
  • 乾燥性に優れ、真空立ち上がりが良い。
  • 実用上無毒で安全性が高く、手拭洗浄にも使用可能。

用途例

open/close
  • 各種半導体製造装置のメンテナンス洗浄
  • 露光装置、ドライエッチング装置、スパッタリング装置、CVD装置、イオン注入装置、その他、フッ素系の汚れが付着する部品のメンテナンス、塵埃の除去など。
  • フッ素系堆積物(デポジット)の除去

製品情報

open/close

洗浄方法

  • Novec™ 7100 またはNovec™ 71IPAによる浸漬洗浄
    • ※超音波による浸漬洗浄を用いれば、洗浄効率が一層向上します。
  • Novec™ 7100 またはNovec™ 71IPAによる手拭洗浄
    • ※スコッチ・ブライト™ 不織布表面処理剤などを併用すると、洗浄効率が一層向上します。

酸化膜ドライエッチング装置 デポジットの洗浄事例

写真:酸化膜ドライエッチング装置 デポジットの洗浄事例

炭化水素系洗浄剤のリンス(Novec™ 7100, Novec™ 7200, Novec™ 71IPA)

写真:炭化水素系洗浄剤のリンス

Novec™ 高機能性液体を用いたすすぎ・蒸気乾燥を行います。
HCFC系溶剤、臭素系溶剤の代替としてご検討いただけます。

低温乾燥が可能なため、被洗浄物への熱ストレスが少なく、また、安全性にも優れた洗浄方式です

特長

open/close
  • Novec™ 高機能性液体は洗浄剤との相溶性に優れ、リンスでの油分残渣を残さない。
  • 優れた浸透性(低表面張力・低粘度)により、微細な間隙の洗浄も可能。
  • 優れた乾燥性により、シミを残すことがほとんど無い。
  • 低温蒸気乾燥により、被洗浄物への熱的ダメージが少ない。
    (Novec™ 7100 沸点61℃)
  • 洗浄ワーク材質との適合性に優れ、影響を与えない。
  • 引火点が無く、洗浄装置の不燃化が可能となる。
  • 洗浄装置をコンパクトにでき、省設置スペースが可能。

用途例

open/close
写真:炭化水素系洗浄剤のリンス
  • 精密部品の脱脂、乾燥
  • ハードディスクドライブサスペンション、アーム
  • エンジン部品等
  • 液晶セル、パネル洗浄
  • シリコーンオイル洗浄 など

製品情報

open/close

洗浄方法

炭化水素洗浄剤をNovec™ 高機能性液体で置換し、すばやく低温での乾燥が可能です。

工程概念図
図:工程概念図

すすぎ性能データ

低温・短時間で洗浄剤をリンスし、オーブン乾燥方式に比べ、短時間で確実に乾燥できます。

すすぎ性能比較(油分残渣量)
図:すすぎ性能比較(油分残渣量)

一般工業部品の脱脂洗浄(Novec™ 71DE, Novec™ 72DE, Novec™ 71DA)

Novec™ 高機能性液体を用いた共沸系溶剤により脱脂洗浄を行います。
HCFC系溶剤、臭素系溶剤の代替としてご検討いただけます。

高い溶解性を持つフッ素系液体含有共沸系溶剤をを用いた洗浄・すすぎ・蒸気乾燥により、油分やシミを殆ど残すことなく仕上げることができます。
低温乾燥が可能なため、被洗浄物への熱ストレスが少なく、また、安全性にも優れた洗浄方式です溶解性を高めた液体です。HCFC系溶剤、臭素系溶剤の代替としてご使用いただけます。

特長

open/close
  • Novec™ 71DE, 72DE, 71DA 高機能性液体は溶解性に優れ、一液で切削油、加工油、グリース、フラックスの洗浄・リンス・乾燥が可能
  • 優れた浸透性(低表面張力・低粘度)により、微細な間隙の洗浄も可能
  • 優れた乾燥性により、シミを残すことがほとんど無い。
  • 低温蒸気乾燥により、被洗浄物への熱的ダメージが少ない。
  • 引火点が無く、洗浄装置の不燃化が可能となり、引火の危険を排除できる。
  • 洗浄装置をコンパクトにでき、省設置スペースが可能

用途例

open/close

一液で洗浄、リンス、乾燥を行うことができます。

  • 金属加工品、機械部品、自動車部品、航空機部品、切削加工品、ベアリング など
図:洗浄方法

航空機部品洗浄事例

自動車関連部品洗浄事例

  • 電子用接合材製品サイトはこちらから
  • 電子用接合材製品サイトはこちらから
  • 電子用接合材製品サイトはこちらから
  • 「その他の3M研磨材製品」研磨材製品事業部のホームページはこちら
  • 「フッ素ゴム、フッ素樹脂、高機能添加剤製品」化学製品事業部のホームページはこちら
  • 「3M™ トライザクト™ 製品の導入ストーリー