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      • ＜ノベック＞HFE（ハイドロフルオロエーテル）
      • ＜フロリナート＞フッ素系不活性液体

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      • ＜ノベック＞エレクトロニックコーティング剤　EGC-1700
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      • ＜ノベック＞1230 消火薬剤

    • リチウム電池電解質

      • ＜フロラード＞リチウム電解質　HQ-115

    • CVDチャンバークリーニングガス

      • スペシャリティーガス　PFG-3218

半導体市場

フッ素化学、研磨、接着剤など、3Mのユニークなテクノロジーで、お客様の製造プロセス改善や高性能化を提案いたします。

洗浄

• ウェーハやMEMSなどの微細構造物洗浄
• 半導体デバイスの除塵
• 半導体製造装置メンテナンス洗浄
• プラズマCVD装置チャンバークリーニング

温度制御

• 半導体製造装置の温度制御

研磨

• CMPパッドコンディショニング
• CMP用研磨フィルム
• プローブカードクリーニング

ウェーハサポート

• ウェーハサポートシステム
• 極薄裏面研削、フォトリソ、エッチング、成膜、メッキ等の工程でのウェーハ支持

信頼性試験

• 電子部品の気密試験（グロスリークテスト）
• 恒温槽
• 耐電圧試験
• サーマルショックテスト
• リキッドバーンインテスト

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