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ウェーハやMEMSなどの微細構造物洗浄

水洗浄後の水切り効果が高く、低温蒸気により素早く乾燥します。
優れた浸透性と乾燥性により、洗浄後の残渣を残しません。微細構造物のスティクションを防止します。

３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体

＜ノベック＞HFE（ハイドロフルオロエーテル）の名称が、３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体に変わりました！

半導体デバイスの除塵

パーティクル（塵埃）の除去性能に優れ、洗浄後に残渣を残すことなく素早く乾燥します。

３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体

＜ノベック＞HFE（ハイドロフルオロエーテル）の名称が、３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体に変わりました！

半導体製造装置メンテナンス洗浄

特にフッ素系汚れの除去性に優れ、安全性と環境特性に優れた液体です。洗浄後に残渣を残すことが殆どありません。
フッ素系堆積物（デポジット）の除去に広く利用されています。

３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体

＜ノベック＞HFE（ハイドロフルオロエーテル）の名称が、３Ｍ™ Novec™ 高機能性液体に変わりました！

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